UV光解

装置前级为光直接氧化区，后级为光催化氧化区。
光直接氧化区工作原理：
1.生成臭氧，在光直接氧化区主要是按网式结构安装有多层双波长（185nm、254nm）紫外灯，在波长185nm紫外光照射下，因185nm光子的能量大于氧化的键能，从而能打断氧气的分子键生存原子氧，原子氧与氧气分子结合生成臭氧。
2.臭氧在254nm波长紫外光照射下再次分解成原子氧和氧气。
3.原子氧与气体中的水分子继续反应，生成具有强氧化能力的羟基自由基。在足够功率的紫外光照射下，1mol臭氧可产生2mol羟基自由基。
臭氧实际上是起着过渡介质的作用。因原子氧存在时间很短，而臭氧的停留时间长，在常温下可达1~2秒，能扩散至整个光氧化区，而且254nm波长紫外光衰减率较小，在一定距离的范围内都能保持有效功率，因此利用臭氧作为过渡介质，可增大羟基自由基产生的几率。
光直接氧化区属气相反应，气体通过光氧化区时都处在具有强氧化能力的羟基自由基和原子氧的包围之中，具有充分的接触时间和接触机会（必须控制烟气流速）。光直接氧化区去除沥青烟气中有机污染物的效率可达80%以上。
光催化氧化区工作原理：
主要是在紫外光照射下光催化剂表面产生的空穴以及由空穴进一步与光催化剂表面的水分子反应生成的羟基自由基，空穴和羟基自由基都具有极高的氧化势能，在空穴和羟基自由基的强氧化作用下，把光直接氧化区未能氧化完的有机物进一步氧化，最终全部氧化成CO2和H2O。
光直接氧化和光催化氧化协同反应的优点：
目前很多单位也采用光催化技术处理有机污染气体，但效果不理想，认为处理效率低。这除了紫外灯功率的匹配和催化剂使用上的问题，一个重要原因是因为光催化剂的量子转化率较低（在30%左右），光催化剂在紫外光照射下产生的电子和空穴，能快速在表面自行复合，而且复合的速度大于生成的速度。因此光催化氧化一般只适宜于处理低浓度污染物，这也是我们把光直接氧化放在前面的原因。为提高光催化效率，必须降低电子和空穴的复合率。我们采用光直接氧化和光催化氧化相结合的的技术，可利用在光氧化区紫外光+臭氧产生的原子氧对于光催化剂表面产生的电子具有极强的吸收能力，从而极大的降低了电子和空穴的复合率，这对提高光催化效率具有重要作用。这就是采用光直接氧化和光催化氧化协同反应的一个重要特点。

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